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一种逆合成孔径雷达二维稀疏成像的资源自适应调度方法

基本信息

  • 申请号 CN201811376967.4 
  • 公开号 CN109459752A 
  • 申请日 2018/11/19 
  • 公开日 2019/03/12 
  • 申请人 桂林电子科技大学  
  • 优先权日期  
  • 发明人 廖可非 杜毅 欧阳缮 白钊铭 李长树  
  • 主分类号 G01S13/90 
  • 申请人地址 541004 广西壮族自治区桂林市七星区金鸡路1号 
  • 分类号 G01S13/90;G01S7/02 
  • 专利代理机构 桂林市华杰专利商标事务所有限责任公司 
  • 当前专利状态 发明专利申请公布 
  • 代理人 覃永峰 
  • 有效性 审查中-实审 
  • 法律状态 审查中-实审
  •  

摘要

本发明公开了一种逆合成孔径雷达二维稀疏成像的资源自适应调度方法,涉及相控阵雷达逆合成孔径雷达成像技术领域,解决的技术问题是如何从目标方位向和距离向角度考虑进行多目标成像任务在单部雷达中合理资源分配从而提升系统整体性能,该方法是在雷达对每个目标进行特征认知的基础上,计算每个目标的脉冲资源需求量,进而根据雷达选取的约束条件确定每个目标所需要分配的子脉冲发射位置,通过对目标的交替观测并获取目标回波信号,从而完成对多个目标的逆合成孔径成像任务。
本发明可从目标方位向和距离向角度考虑实现单步雷达面对多目标时的资源分配,节省雷达资源,提升系统整体性能。
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权利要求书


1.一种逆合成孔径雷达二维稀疏成像的资源自适应调度方法,在雷达对每个目标进行特征认知的基础上,计算每个目标的脉冲资源需求量,进而根据雷达选取的约束条件确定每个目标所需要分配的子脉冲发射位置,通过对目标的交替观测并获取目标回波信号,从而完成对多个目标的逆合成孔径成像任务,其特征在于,包括如下步骤:(一)雷达对每个目标发射少量脉冲,估算目标飞行参数;(二)估算目标二维尺寸;(三)确定雷达对目标发射脉冲串个数及脉冲串下发射子脉冲个数;(四)估计目标方位向稀疏度、距离向稀疏度;(五)确定雷达对目标方位向稀疏发射脉冲串个数和距离向稀疏发射子脉冲个数;(六)计算目标的威胁度;(七)在满足资源约束的条件下,建立资源调度模型并进行脉冲资源分配;(八)用现有的二维稀疏成像技术获得目标二维像。
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