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一种激光干涉仪辅助对光装置

基本信息

  • 申请号 CN201920935985.5 
  • 公开号 CN209857842U 
  • 申请日 2019/06/20 
  • 公开日 2019/12/27 
  • 申请人 烟台环球数控科技有限公司 烟台环球机床装备股份有限公司  
  • 优先权日期  
  • 发明人 高飞 景国丰 林浩  
  • 主分类号 G01B9/02 
  • 申请人地址 265500 山东省烟台市福山区王懿荣大街28号 
  • 分类号 G01B9/02 
  • 专利代理机构  
  • 当前专利状态 实用新型专利授权公告 
  • 代理人  
  • 有效性 有效专利 
  • 法律状态
  •  

摘要

本实用新型公开了一种激光干涉仪辅助对光装置,包括具有平面底面的机座,机座上设置有垂直于机座的平面底面的立柱,载板通过垂直通孔可沿垂直方向升降地套装于立柱上,调节螺栓的末端伸入垂直通孔并压紧立柱以固定载板,载板的底面具有用于贴合激光干涉仪的干涉镜的第一平面,载板上设置有均沿垂直方向设置的光靶和晶体管激光器,晶体管激光器朝向正下方出射光束,光靶的上表面为靶面,晶体管激光器的出光孔至光靶中心的垂直距离等于激光干涉仪出光孔和回光孔的垂直距离。
本实用新型的有益效果是:大大缩短了对光时间,提高了检测效率,减小了机床的检测占用时间,同时避免了因对光失误造成的检测误差。
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权利要求书


1.一种激光干涉仪辅助对光装置,其特征在于:包括具有平面底面的机座,机座上设置有垂直于机座的平面底面的立柱,载板具有与立柱相配合的垂直通孔,以平面底面为水平面,载板通过垂直通孔可沿垂直方向升降地套装于立柱上,载板上设置有垂直于垂直通孔的螺纹孔,螺纹孔内安装调节螺栓,调节螺栓的末端伸入垂直通孔并压紧立柱以固定载板,载板的底面具有用于贴合激光干涉仪的干涉镜的第一平面,载板上设置有均沿垂直方向设置的光靶和晶体管激光器,晶体管激光器朝向正下方出射光束,光靶的上表面为靶面,晶体管激光器的出光孔至光靶中心的垂直距离等于激光干涉仪出光孔和回光孔的垂直距离。
2.根据权利要求1所述的一种激光干涉仪辅助对光装置,其特征在于:所述的载板为具有透光性的透明板。
3.根据权利要求1所述的一种激光干涉仪辅助对光装置,其特征在于:所述的载板上设置有用于透过晶体管激光器的出光和激光干涉仪的出射光的让位孔。
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说明书

技术领域
本实用新型涉及机床测量技术领域,特别是一种激光干涉仪辅助对光装置。
背景技术
如今在数控机床的精度检测中大量的用到激光干涉仪。
在激光干涉仪进行测量之前需要对激光干涉仪进行对光,使干涉镜折射后的光路平行于被测轴移动方向。
现有对光方式依靠不断微调激光头的位置和偏角进行对光,这种对光方式在垂直轴的测量中需要很长的对光时间,尤其是在被测机床轴较长时,往往对光时间远远大于实际测量时间。
导致设备停工时间长,造成了资源的极大浪费。
实用新型内容本实用新型的目的在于克服现有技术对光方式的效率不足的缺点,以及因对光误差造成的检测误差,提供一种激光干涉仪辅助对光装置。
本实用新型的目的通过以下技术方案来实现:一种激光干涉仪辅助对光装置,包括具有平面底面的机座,机座上设置有垂直于机座的平面底面的立柱,载板具有与立柱相配合的垂直通孔,以平面底面为水平面,载板通过垂直通孔可沿垂直方向升降地套装于立柱上,载板上设置有垂直于垂直通孔的螺纹孔,螺纹孔内安装调节螺栓,调节螺栓的末端伸入垂直通孔并压紧立柱以固定载板,载板的底面具有用于贴合激光干涉仪的干涉镜的第一平面,载板上设置有均沿垂直方向设置的光靶和晶体管激光器,晶体管激光器朝向正下方出射光束,光靶的上表面为靶面,晶体管激光器的出光孔至光靶中心的垂直距离等于激光干涉仪出光孔和回光孔的垂直距离。
使用时,使得晶体管激光器出射光照射激光干涉仪回光孔,同时使光靶上的光点位于光靶的正中心,即完成激光的找准。
具体的,根据激光干涉仪干涉镜高度调节调节螺栓,高度调节至适当,然后将载板的第一平面与激光干涉仪的干涉镜组端面靠齐,之后开启晶体管激光器。
此时,晶体管激光器的出射光经过激光干涉仪干涉镜反射出去。
这时,调节激光干涉仪的位置,使晶体管激光器发出的光入射到激光干涉仪的回光孔。
然后调节激光干涉仪使激光干涉仪的出射光照射干涉镜,通过干涉镜的折射,激光干涉仪发出的激光会照射到光靶。
然后在保持晶体管激光器发出的光入射到激光干涉仪的回光孔不变的前提下,调节激光干涉仪使的光靶上的激光光点位于光靶的正中心。
在调节光靶上的光点位于靶面正中心的同时,原照射激光干涉仪回光孔的晶体管激光器出射光位置会有所偏移,此时微调激光干涉仪,使得晶体管激光器出射光照射激光干涉仪的回光孔,同时使光靶上的光点位于靶面的正中心。
此时,因为光靶中心与晶体管激光器的中心距等于激光干涉仪出光孔和激光干涉仪回光孔的距离,所以晶体管激光器出射光与激光干涉仪出射光平行。
因晶体管激光器的出射光在经过干涉镜前的光路直于平面底面,且晶体管激光器出射光与激光干涉仪出射光平行,故激光干涉仪出射光经干涉镜折射的光路垂直于平面底面。
而平面底面吸附于机床工作台平面,工作台平面又与机床垂直轴垂直,故此时激光干涉仪出射光经干涉镜折射后的光路与机床垂直轴平行。
至此对光完成。
优选的,所述的光靶的靶面为向晶体管激光器一侧倾斜45°的斜面,以方便使用人员自激光干涉仪侧进行观察。
进一步优选的,所述的靶面上设置有刻线标记,以方便进行对光。
可选的,所述的载板为具有透光性的透明板,从而载板能够透过晶体管激光器的出光和激光干涉仪的出射光,使激光干涉仪的出射光进入光靶。
也可选的,所述的载板上设置有用于透过晶体管激光器的出光和激光干涉仪的出射光的让位孔,从而载板不必必须采用透明材质。
本实用新型具有以下优点:本实用新型与现有对光方式相比,大大缩短了对光时间,提高了检测效率,减小了机床的检测占用时间,同时避免了因对光失误造成的检测误差。
附图说明
图1为本实用新型的结构示意图。
图2为本实用新型另一结构示意图。
具体实施方式
下面结合附图对本实用新型做进一步的描述:如图1所示,一种激光干涉仪辅助对光装置,包括具有平面底面1的机座2,机座2上设置有垂直于机座2的平面底面1的立柱3,载板4具有与立柱3相配合的垂直通孔,以平面底面1为水平面,载板4通过垂直通孔可沿垂直方向升降地套装于立柱3上,载板4上设置有垂直于垂直通孔的螺纹孔,螺纹孔内安装调节螺栓5,调节螺栓5的末端伸入垂直通孔并压紧立柱3以固定载板4,载板4的底面具有用于贴合激光干涉仪10的干涉镜13的第一平面6,载板4上设置有均沿垂直方向设置的光靶7和晶体管激光器8,晶体管激光器8朝向正下方出射光束,光靶7的上表面为靶面9,晶体管激光器8的出光孔11至光靶7中心的垂直距离等于激光干涉仪10出光孔11和回光孔12的垂直距离。
使用时,如图2所示,使得晶体管激光器8出射光14照射激光干涉仪10回光孔12,同时使光靶7上的光点位于光靶7的正中心,即完成激光的找准。
具体的,根据激光干涉仪10干涉镜13高度调节调节螺栓5,高度调节至适当,然后将载板4的第一平面6与激光干涉仪10的干涉镜13组端面靠齐,之后开启晶体管激光器8。
此时,晶体管激光器8的出射光14经过激光干涉仪10干涉镜13反射出去。
这时,调节激光干涉仪10的位置,使晶体管激光器8发出的光入射到激光干涉仪10的回光孔12。
然后调节激光干涉仪10使激光干涉仪10的出射光15照射干涉镜13,通过干涉镜13的折射,激光干涉仪10发出的激光会照射到光靶7。
然后在保持晶体管激光器8发出的光入射到激光干涉仪10的回光孔12不变的前提下,调节激光干涉仪10使的光靶7上的激光光点位于光靶7的正中心(靶面9中心有圆刻线标识位置)。
在调节光靶7上的光点位于靶面9正中心的同时,原照射激光干涉仪10回光孔12的晶体管激光器8出射光位置会有所偏移,此时微调激光干涉仪10,使得晶体管激光器8出射光照射激光干涉仪10的回光孔12,同时使光靶7上的光点位于靶面9的正中心。
此时,因为光靶7中心与晶体管激光器8的中心距等于激光干涉仪10出光孔11和激光干涉仪10回光孔12的距离,所以晶体管激光器8出射光14与激光干涉仪10出射光15平行。
因晶体管激光器8的出射光14在经过干涉镜13前的光路直于平面底面1,且晶体管激光器8出射光14与激光干涉仪10出射光平行,故激光干涉仪10出射光15经干涉镜13折射的光路垂直于平面底面1。
而平面底面1吸附于机床工作台平面,工作台平面又与机床垂直轴垂直,故此时激光干涉仪10出射光15经干涉镜13折射后的光路与机床垂直轴平行。
至此对光完成。
优选的,所述的光靶7的靶面9为向晶体管激光器8一侧倾斜45°的斜面,以方便使用人员自激光干涉仪10侧进行观察。
进一步优选的,所述的靶面9上设置有刻线标记,以方便进行对光。
可选的,所述的载板4为具有透光性的透明板,从而载板4能够透过晶体管激光器8的出光和激光干涉仪10的出射光,使激光干涉仪10的出射光进入光靶7。
也可选的,所述的载板4上设置有用于透过晶体管激光器8的出光和激光干涉仪10的出射光的让位孔,从而载板4不必必须采用透明材质。
本实用新型与现有对光方式相比,大大缩短了对光时间,提高了检测效率,减小了机床的检测占用时间,同时避免了因对光失误造成的检测误差。
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